處理氣體

處理製程逸散的氯矽烷類(SiH3Cl、Cl2H2Si、H9NSi3、SiH4)及鹽酸(HCl)等化學氣體。由於氫氣濃度含量極高，須確保製程處理安全性。

技術亮點

• 串級處理流程：依據氣體排放及化學反應特性，滌氣系統採串級設計，有效處理複雜的製程廢氣
• 最佳能耗設計：考慮化學反應的放熱特性，計算及配置製程設備，達到最佳的處理效率及系統能耗比
• 高效能設計：洗滌塔採用依氣體類型計算最適填充材，搭配最佳化塔徑、Flooding Ratio計算，並依據分區不同設置不同形式的噴嘴及對應的氣體減速攪拌區，提高質傳效率
• 安全升級：考量氫氣生成風險，設計完整的安全防護措施，包含防爆配置與火焰防阻器/阻火器。FRP及塑膠配管採耐燃材質設計，管道連接處並配置管線洩漏偵測感應器
• 智慧監控系統：配備完整的監測與控制系統，即時監控處理效率與設備狀態

設備示意

環境效益

• 有效處理半導體製程有害氣體
• 符合最新環保法規標準
• 降低環境污染風險
• 提升工業安全等級

本系統展現了奧特拉斯在半導體產業廢氣處理的技術與專業整合能力，依製程特性，可設計文式滌氣塔、填充滌氣塔、流體化半乾式滌氣塔、臥式旋風滌氣塔，為產業環保提供更安全、更有效的解決方案。若製程有持續性高濃度氫氣產出，另可考慮奧特拉斯搭載PDR反應器的熱處理設備，為公司去廢、節能、減碳、創能，進一步提高ESG貢獻。